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大尺寸原子層沉積設備

發布時間:2017/6/23  發布者:  瀏覽次數:1676

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【產品簡介】
大尺寸原子層沉積系統是由中心自主研發(201610971593.5等)的產品,可滿足12英寸(300 mm)硅片等批量加工需求以及大型零部件的納米薄膜加工需求。系統擁有5個可加熱液態源,可制備多種二元或三元復合納米薄膜,襯底溫度可加熱至400℃,滿足多種加工工藝需求,系統采用PLC全自動控制,可長期穩定可靠連續使用。
【性能指標】
1. 襯底尺寸:100 - 300 mm;
2. 襯底數量:可批量加工;
3. 襯底溫度:25℃ - 400℃; ±0.2℃;
4. 前驅體源:5個液態源,其中可加熱源2個;
5. 沉積的均勻性:<±1%;
6. PLC全自動控制。
【應用范圍】
可應用于微電子、太陽能、光電、光學、防腐等領域。

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