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原子層沉積高性能納米透明防腐薄膜制備技術

發布時間:2017/6/23  發布者:  瀏覽次數:1598

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【技術簡介】
原子層沉積(ALD)高性能納米透明防腐薄膜制備技術是中心自主開發(ZL201110030298.7)的一種通過原子層循環沉積生長納米薄膜的技術,該技術在貴重金屬的表面防腐上具有顯著優勢。
【技術特點】
1. 靈活度高:可根據不同表面和形狀的防腐要求,選擇所需沉積的材料和厚度,實現均勻沉積,達到表面高效防腐;
2. 成膜均勻:避免了常規PVD、CVD技術帶來的無法在不規則表面形成均勻成膜的缺陷;
3. 防護能力強:沉積的薄膜致密度高、針孔少、透明性好,能充分隔絕腐蝕性、強氧化性等物質,起到全方位防護的作用;
4. 顏色可調、持久性強:通過精確控制沉積薄膜的厚度和光學常數,能調變沉積層表面不同的光澤度和顏色,且顏色持久不褪色,可大幅度提升金屬制品防腐外觀的可視效果,增加防腐制品的附加值;
5. 操作簡單:薄膜形成所需的溫度低、原料消耗少;薄膜沉積工藝設備全自動化控制,穩定可靠,單位生產成本低,節能環保,具備規模化產業推廣的前景。
【應用領域】
    防腐領域:可用于各類貴重金屬、金銀首飾、紀念幣,電子器件連接處以及精密零部件的表面防腐。

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